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高纯级（EL级）过氧化氢：该产品金属杂质含量小于100ppb,控制1微米粒径粒子，达到SEMIC1、C2标准，适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺。

产品包装规格：30公斤／桶，200公斤／桶，1000公斤／桶，以及30吨槽车。

产品介绍：电子级过氧化氢（UP级）使用0.8微米以上集成电路及TFT-LCD制造工艺，金属杂质含量小于10PPb,产品经过0.2微米孔径过滤，控制0.5微米粒子，在100级净化环境中灌装达到SEMIC7标准，产品主要用作半导体硅晶片清洗剂，蚀刻剂和光刻胶去除剂，还可用于要求较高的缘层制取，电镀液无机杂质去除，电子行业中铜、铜合金和镓、锗的处理，以及太阳能硅晶片的烛刻和清洗。在处理过程中，试剂中的杂质会对元器件性能产生致命影响，因此，超净高纯过氧化氢对纯度的要求非常苛刻。